脈沖激光沉積的優(yōu)勢(shì)：

       1.易于獲得預(yù)期化學(xué)測(cè)量比的多組分膜，即具有良好的保成分性；

       2.沉積率高，試驗(yàn)周期短，襯底溫度要求低，薄膜制備均勻；

       3.任意調(diào)整工藝參數(shù)，對(duì)靶材類型無限制；

       4.發(fā)展?jié)摿薮螅嫒菪詮?qiáng)；

       5.易清便，可制備多種薄膜材料。

脈沖激光沉積的略勢(shì)：

        脈沖激光沉積作為一種新的沉積技術(shù)，還需要解決以下問題：（1）在激光引起的爆炸過程中，沉積膜中熔化的小顆粒或目標(biāo)碎片會(huì)飛濺。這些顆粒的存在大大降低了薄膜的質(zhì)量。事實(shí)上，這是PLD需要解決的關(guān)鍵問題（2）僅限于當(dāng)前商用激光的輸出能量，尚未證明激光在大面積沉積中的可行性，但原則上（3）平均沉積率緩慢，沉積面積約1000平方毫米，每小時(shí)沉積厚度約為數(shù)百至1微米；

發(fā)展前景：

       從脈沖激光沉積技術(shù)的原理可以看出，它是一種具有巨大發(fā)展?jié)摿Φ谋∧ぶ苽浼夹g(shù)。隨著輔助設(shè)備和工藝的進(jìn)一步優(yōu)化，它將在半導(dǎo)體膜、超晶格、超導(dǎo)、生物涂層等功能膜的制備中發(fā)揮重要作用；加快薄膜生長(zhǎng)機(jī)制的研究，提高薄膜的應(yīng)用水平，加快材料科學(xué)和凝聚物理的研究過程。同時(shí)，它也為制備新薄膜提供了有效的方法。