原子層沉積設備采用模塊化設計理念，主要由真空模塊、前驅體輸運模塊、全封閉氣體反應模塊和電子控制模塊四個可拆裝的模塊組成，滿足超凈室標準；系統結構緊湊、集成度高，可實現全流程自動化控制，具有均勻性好、技術指標廣泛可調、適用范圍廣等特點。   原子層沉積設備具有連續和停留模式自由選擇，可在平面及三維結構材料上沉積薄膜。可用于生長多種氧化物及其復合薄膜的制備，廣泛應用于high-K柵極絕緣層、OLED封裝層、太陽能電池鈍化層、鋰離子電池、光學元件鍍膜、MEMS等諸多領域。

技術特點：

PE多功能真空反應模塊可選配

1、真空內半球形加熱器加熱設計，溫度均勻性高，使用壽命長；

2、遠程ICP電感耦合等離子體，喇叭形等離子體腔體結構，適合高均勻性、低損傷薄膜沉積；

3、沉積腔室內無死區，沉積薄膜顆粒少，0.5um以上顆粒值增加少于50顆；
4、小的沉積腔室空間，沉積速度快，標準沉積溫度下cycle吹掃時間短至4 s；
5、配置高溫ALD閥和全獨立質量流量計控制前驅體源吹掃閥門和管道，確保閥門和管道無前驅體源殘留，有效減少顆粒的產生；
6、配置耐污染薄膜壓力傳感器用于全工藝過程壓強變化的實時監測，延長真空計的使用壽命；
7、ALD工藝配方編輯方便方便、靈活，可方便實現高深寬比、多元復合薄膜及交替薄膜的配方編輯；
8、高精度實時PLC軟件控制系統和高性能4U工控機，高速數據采集和高可靠性，可連續長時間運行；
9、多重安全保障：軟件控制上具備多重自鎖和互鎖保護功能，軟件和硬件雙重過溫保護功能以及CDA缺壓報警功能，保障系統安全運行；
10、維護簡單、方便，一次大保養僅需2小時可完成。

以上就是小編為大家介紹的原子層沉積設備，感謝大家耐心的閱讀！