原子層沉積設備原子層沉積技術已逐漸成為沉積功能膜的重要技術。該技術可以準確地控制納米尺度上物質的成分和形狀，并可以以單原子膜的形式逐層涂抹沉積物。原子層沉積設備原子層沉積過程通過連續的自限半反應實現。在沉積反應過程中，反應氣相前驅體交替進入，通過活性官能團在基底表面形成單層化學吸附，完成反應。經過這種交替循環反應后，膜將獲得納米的可控生長。由于這些沉積特性，原子層沉積技術在大面積沉積均勻膜、膜厚納米級可控生長、低溫條件沉積等方面具有重要的應用前景。這些獨特的優點使原子層沉積技術在大規模集成電路、新能源、催化劑、儲能材料等方面具有重要的應用前景。

目前，我們的研究方向主要是將區域選擇性原子層沉積擴展到納米顆粒沉積。我們將嘗試通過分子自組裝技術對基礎進行改性，使原子層沉積過程沉積在局部地區，產生納米顆粒。一些特殊結構的納米尺寸模板可以通過控制分子自組裝單層的生長來獲得。利用該模板產生納米顆粒，實現納米顆粒尺寸和形狀的可控生長。納米顆粒制備方法的適用范圍從純金屬顆粒擴展到合金納米顆粒，產生近表面合金催化劑，實現合金顆粒的密度分布、尺寸和成分的原子尺寸。

2、原子層沉積設備

采用流化法，粉末顆粒與粉末夾持器連續移動，實現粉末分散狀態下的表面覆蓋，提高覆蓋均勻性和整體覆蓋率，節約沉積。

旋轉沉積設備：離心力驅動粉末旋轉，可實現壓力沉積過程，提高前驅利用率，減少粉末團聚，通過流化氣流壓差分散粉末顆粒，增加反應面積，提高覆蓋均勻性。