v  功能特點

ü  本底真空-8Torr-10Torr

ü 四軸樣品臺，XYZ方向均可調節，可傾斜，可旋轉

ü  多靶位靶材臺，帶水冷，支持多4個靶位，可旋轉切換靶位

ü  RFICP射頻離子源

ü霍爾或考夫曼輔助離子源

ü  雙掩膜Dual mask

ü  UpStream/Downstream控制

ü  膜厚監控儀

ü  可增加OES等離子發射光譜儀定性分析等離子成分

ü  可增加RGA四極質譜儀

ü  可集成磁控濺射陰極，實現磁控濺射鍍膜功能

ü  可增加進樣室，手動/自動上下片基片

ü  可實現離子束沉積、離子束刻蝕和磁控濺射多功能系統

（可根據客戶要求定制）